4 дюймнан 12 дюймга кадәр сапфир/SiC/Si пластиналарын эшкәртү өчен пластинаны сирәкләндерү җиһазы
Эш принцибы
Пластинаны сыекландыру процессы өч этаптан тора:
Тупас тарту: Алмаз тәгәрмәч (бөтнек зурлыгы 200–500 мкм) калынлыкны тиз киметү өчен 3000–5000 әйләнү/мин тизлегендә 50–150 мкм материалны ала.
Нечкә тарту: Нечкәрәк тәгәрмәч (бөтнек зурлыгы 1–50 мкм) калынлыкны <1 мкм/с тизлектә 20–50 мкм га кадәр киметә, бу җир асты зыянын минимальләштерә.
Полировкалау (CMP): Химик-механик суспензия калдык зыянны бетерә, Ra <0,1 нмга ирешә.
туры килә торган материаллар
Кремний (Si): CMOS пластиналары өчен стандарт, 3D катламлаштыру өчен 25 мкм га кадәр сыекландырылган.
Кремний карбиды (SiC): Термик тотрыклылык өчен махсуслаштырылган алмаз тәгәрмәчләр (80% алмаз концентрациясе) кирәк.
Сапфир (Al₂O₃): Ультрафиолет LED кушымталары өчен 50 мкм га кадәр сыекландырылган.
Төп система компонентлары
1. Тарту системасы
Ике күчәрле тарткыч: Бер платформада эре/вак тарткычны берләштерә, цикл вакытын 40% ка киметә.
Аэростатик шпиндель: <0,5 мкм радиаль йөгерү белән 0–6000 әйләнү/мин тизлек диапазоны.
2. Вафли белән эш итү системасы
Вакуум патроны: >50 Н тоту көче, ±0.1 мкм позицияләү төгәллеге белән.
Робот кул: 4–12 дюймлы пластиналарны 100 мм/с тизлектә ташый.
3. Идарә итү системасы
Лазер интерферометриясе: Реаль вакыт режимында калынлыкны күзәтү (чишелеш 0,01 мкм).
Ясалма интеллект белән идарә ителә торган кире элемтә: Тәгәрмәчләрнең тузуын фаразлый һәм параметрларны автоматик рәвештә көйли.
4. Суыту һәм чистарту
Ультратавыш чистарту: 0,5 мкм дан зуррак кисәкчәләрне 99,9% нәтиҗәлелек белән бетерә.
Дионизацияләнгән су: Вафлины әйләнә-тирә мохиттән <5°C югарырак дәрәҗәдә суыта.
Төп өстенлекләр
1. Бик югары төгәллек: TTV (тулы калынлык үзгәреше) <0.5 мкм, WTW (Вафли эчендәге калынлык үзгәреше) <1 мкм.
2. Күп процесслы интеграция: Бер машинада тарту, CMP һәм плазма белән эшкәртүне берләштерә.
3. Материал туры килүе:
Кремний: Калынлык 775 мкм дан 25 мкм га кадәр кимеде.
SiC: RF кушымталары өчен <2 мкм TTVга ирешә.
Легирланган пластиналар: 5% тан кимрәк каршылык дрейфы белән фосфор белән легирланган InP пластиналары.
4. Акыллы автоматизация: MES интеграциясе кеше хаталарын 70% ка киметә.
5. Энергия нәтиҗәлелеге: регенератив тормозлау ярдәмендә энергия куллануны 30% ка киметү.
Төп кушымталар
1. Алдынгы упаковка
• 3D интеграль микросхемалар: Пластинаны нечкәләштерү логика/хәтер чипларын (мәсәлән, HBM стекларын) вертикаль рәвештә катламларга урнаштыру мөмкинлеген бирә, 2.5D чишелешләр белән чагыштырганда 10 тапкыр югарырак полоса киңлегенә һәм 50% ка энергия куллануны киметүгә ирешә. Җиһазлар гибрид бәйләнешне һәм TSV (Through-Silicon Via) интеграциясен хуплый, бу <10 мкм үзара тоташу аралыгы таләп итүче AI/ML процессорлары өчен бик мөһим. Мәсәлән, 25 мкм га кадәр нечкәләштерелгән 12 дюймлы пластинкалар 8+ катламны катламларга урнаштыру мөмкинлеге бирә, шул ук вакытта <1,5% кагышуны саклый, бу автомобиль LiDAR системалары өчен бик мөһим.
• Җилләткечле упаковка: Пластинаның калынлыгын 30 мкм га кадәр киметү юлы белән тоташтыру озынлыгы 50% ка кыскара, сигнал тоткарлыгын минимальләштерә (<0,2 пс/мм) һәм мобиль SoC өчен 0,4 мм ультра-нечкә чиплетлар кулланырга мөмкинлек бирә. Процесс югары ешлыклы RF кушымталарында ышанычлылыкны тәэмин итү өчен, көчәнеш белән компенсацияләнгән тарту алгоритмнарын куллана (>50 мкм TTV белән идарә итү).
2. Көчле электроника
• IGBT модульләре: 50 мкм га кадәр сирәкләү җылылыкка каршылыкны <0,5°C/W кадәр киметә, бу 1200V SiC MOSFET чиркәвенә 200°C тоташу температурасында эшләргә мөмкинлек бирә. Безнең җиһазлар җир асты зыянын бетерү өчен күп баскычлы тартуны куллана (тупас: 46 мкм вак: 4 мкм вак), һәм термик циклның ышанычлылыгының >10,000 циклына ирешә. Бу электромобиль инверторлары өчен бик мөһим, анда 10 мкм калынлыктагы SiC пластиналары күчү тизлеген 30% ка яхшырта.
• GaN-on-SiC көч җайланмалары: Пластинаны 80 мкм га кадәр сирәкләтү 650В GaN HEMT өчен электроннарның хәрәкәтчәнлеген арттыра (μ > 2000 см²/V·s), үткәрүчәнлек югалтуларын 18% ка киметә. Процесс сирәкләтү вакытында ярылуны булдырмас өчен лазер ярдәмендә ваклауны куллана, радиоешлык көчәйткечләре өчен <5 мкм кырый ваклануына ирешә.
3. Оптоэлектроника
• GaN-on-SiC LEDлары: 50 мкм сапфир субстратлары фотон тотуны минимальләштерү юлы белән яктылык чыгару нәтиҗәлелеген (LEE) 85% ка кадәр арттыра (150 мкм пластиналар өчен 65% белән чагыштырганда). Безнең җиһазның бик түбән TTV контроле (<0.3 мкм) 12 дюймлы пластиналар буенча бердәм LED нурланышын тәэмин итә, бу <100 нм дулкын озынлыгы бердәмлеген таләп итүче Micro-LED дисплейлар өчен бик мөһим.
• Кремний фотоникасы: 25 мкм калынлыктагы кремний пластиналары дулкын үткәргечләрендә таралу югалтуларын 3 дБ/см киметергә мөмкинлек бирә, бу 1,6 Тбит/с оптик кабул итүче-тапшыргычлар өчен бик мөһим. Процесс өслекнең тигезсезлеген Ra <0,1 нм кадәр киметү өчен CMP шомартуын берләштерә, тоташтыру нәтиҗәлелеген 40% ка арттыра.
4. MEMS сенсорлары
• Акселерометрлар: 25 мкм кремний пластиналары SNR >85 дБ (50 мкм пластиналар өчен 75 дБ белән чагыштырганда) дәрәҗәсенә ирешә, чөнки алар проба-масса күчерү сизгерлеген арттыра. Безнең ике күчәрле тарту системасы көчәнеш градиентларын компенсацияли, -40°C тан 125°C га кадәр температурада <0,5% сизгерлек дрейфын тәэмин итә. Куллануга автомобиль һәлакәтләрен ачыклау һәм AR/VR хәрәкәтен күзәтү керә.
• Басым датчиклары: 40 мкм га кадәр сирәкләндерү 0–300 бар үлчәү диапазоннарын <0,1% FS гистерезисы белән тәэмин итә. Вакытлыча бәйләү (пыяла тотучылар) ярдәмендә, процесс арткы яктан эшкәртү вакытында пластина сынуын булдырмый, сәнәгать IoT датчиклары өчен <1 мкм артык басымга түземлелеккә ирешә.
• Техник синергия: Безнең пластинаны сирәкләтү җиһазлары төрле материал проблемаларын (Si, SiC, Sapphire) хәл итү өчен механик тартуны, CMP һәм плазма эшкәртүне берләштерә. Мәсәлән, GaN-on-SiC катылык һәм җылылык киңәюен тигезләү өчен гибрид тартуны (алмаз тәгәрмәчләр + плазма) таләп итә, ә MEMS сенсорлары CMP полировкасы аша 5 нм дан кимрәк өслек тигезлеген таләп итә.
• Сәнәгатькә йогынты: Нечкәрәк, югарырак җитештерүчәнлекле пластиналарны куллану мөмкинлеге биреп, бу технология ясалма интеллект чипларында, 5G ммВолк модульләрендә һәм сыгылмалы электроникада инновацияләрне этәрә, бөкләнә торган дисплейлар өчен TTV толерантлыгы <0,1 мкм һәм автомобиль LiDAR сенсорлары өчен <0,5 мкм.
XXKH хезмәтләре
1. Шәхси чишелешләр
Масштабланырлык конфигурацияләр: автоматик йөкләү/бушату белән 4–12 дюймлы камера конструкцияләре.
Допинг ярдәме: Er/Yb белән легирланган кристаллар һәм InP/GaAs пластиналары өчен махсус рецептлар.
2. Очтан-очка ярдәм
Процессларны үстерү: Оптимизацияләү белән бушлай сынау версиясе эшли.
Глобаль тренинг: Ел саен техник хезмәт күрсәтү һәм проблемаларны чишү буенча техник семинарлар.
3. Күп материаллы эшкәртү
SiC: Ra <0.1 нм булганда 100 мкм га кадәр сирәкләнә торган пластина.
Сапфир: УВ лазер тәрәзәләре өчен 50 мкм калынлык (үткәргечлеге >92% @ 200 нм).
4. Өстәмә кыйммәт бирүче хезмәтләр
Кулланылыш материаллары: Алмаз тәгәрмәчләр (2000+ пластина/хезмәт) һәм CMP суспензияләре.
Йомгак
Бу пластиналарны сирәкләтү җиһазы тармакта алдынгы төгәллек, күп материаллы күпкырлылык һәм акыллы автоматизация тәкъдим итә, бу аны 3D интеграцияләү һәм көч электроникасы өчен алыштыргысыз итә. XKH комплекслы хезмәтләре - көйләүдән алып эшкәртүгә кадәр - клиентларга ярымүткәргечләр җитештерүдә чыгымнарны нәтиҗәле һәм югары сыйфатлы башкаруга ирешүне тәэмин итә.









