4H/6H-P 6 дюймлы SiC пластинасы Нуль MPD сыйфатлы җитештерү сыйфатлы манекен сыйфаты

Кыскача тасвирлама:

4H/6H-P тибындагы 6 дюймлы SiC пластинасы - электрон җайланмалар җитештерүдә кулланыла торган ярымүткәргеч материал, ул үзенең җылылык үткәрүчәнлеге, югары ватылу көчәнеше һәм югары температураларга һәм коррозиягә чыдамлыгы белән билгеле. Җитештерү дәрәҗәсендәге һәм нуль MPD (микро торба дефекты) дәрәҗәсе аның югары җитештерүчәнлекле көч электроникасында ышанычлылыгын һәм тотрыклылыгын тәэмин итә. Җитештерү дәрәҗәсендәге пластиналар зур күләмле җайланмалар җитештерү өчен катгый сыйфат контроле белән кулланыла, ә макет дәрәҗәсендәге пластиналар, нигездә, процессны көйләү һәм җиһазларны сынау өчен кулланыла. SiC-ның күренекле үзлекләре аны югары температуралы, югары көчәнешле һәм югары ешлыклы электрон җайланмаларда, мәсәлән, көч җайланмаларында һәм RF җайланмаларында киң кулланырга мөмкинлек бирә.


Үзенчәлекләр

4H/6H-P тибындагы SiC композит субстратлары Уртак параметрлар таблицасы

6 дюйм диаметрлы кремний карбиды (SiC) субстраты Спецификация

Дәрәҗә Нуль MPD җитештерүДәрәҗә (Z) Дәрәҗә) Стандарт җитештерүДәрәҗә (P) Дәрәҗә) Макет дәрәҗәсе (D Дәрәҗә)
Диаметр 145,5 мм ~ 150,0 мм
Калынлыгы 350 мкм ± 25 мкм
Вафли юнәлеше -Offкүчәр: 4H/6H-P өчен [1120] юнәлешендә 2.0°-4.0° ± 0.5°, күчәрдә: 3C-N өчен 111〉± 0.5°
Микроторба тыгызлыгы 0 см-2
Каршылык p-тип 4H/6H-P ≤0.1 Ωꞏсм ≤0.3 Ωꞏсм
n-тип 3C-N ≤0.8 мΩꞏсм ≤1 м Ωꞏсм
Төп яссылык ориентациясе 4H/6H-P -{1010} ± 5.0°
3C-N -{110} ± 5.0°
Башлангыч яссы озынлык 32,5 мм ± 2,0 мм
Икенчел яссы озынлык 18,0 мм ± 2,0 мм
Икенчел яссы ориентация Кремний өске яктан: 90° CW. Prime яссылыгыннан ± 5.0°
Кыр чикләрен чыгару 3 мм 6 мм
LTV/TTV/Bow /Warp ≤2.5 μm / ≤5 μm / ≤15 μm / ≤30 μm ≤10 μm / ≤15 μm / ≤25 μm / ≤40 μm
Тупаслык Полякча Ra≤1 нм
CMP Ra≤0.2 нм Ra≤0,5 нм
Югары интенсивлыклы яктылык белән кырый ярылулары Юк Кумулятив озынлык ≤ 10 мм, бер озынлык ≤ 2 мм
Югары интенсивлыклы яктылык ярдәмендә алты почмаклы пластиналар Тупланган мәйдан ≤0,05% Тупланган мәйдан ≤0.1%
Югары интенсивлыклы яктылык ярдәмендә политип зоналары Юк Кумулятив мәйдан ≤3%
Күзгә күренеп ясалган углерод кушылмалары Тупланган мәйдан ≤0,05% Тупланган мәйдан ≤3%
Югары интенсивлы яктылык белән кремний өслегендәге сызыклар Юк Кумулятив озынлык ≤1 × пластина диаметры
Чиплар югары интенсивлыклы яктылык белән Киңлеге һәм тирәнлеге ≥0,2 мм булырга тиеш түгел 5 рөхсәт ителә, һәрберсе ≤1 мм
Кремний өслегенең югары интенсивлык белән пычрануы Юк
Упаковка Күп вафлилы кассета яки бер вафлилы контейнер

Искәрмәләр:

※ Кимчелекләр чикләре, кырыйларны чыгару өлкәсеннән кала, бөтен пластина өслегенә кагыла. # Сыдырылуларны Si йөзендә тикшерергә кирәк.

4H/6H-P тибындагы 6 дюймлы SiC пластинасы нуль MPD класслы һәм җитештерү яки макет класслы алдынгы электрон кушымталарда киң кулланыла. Аның югары җылылык үткәрүчәнлеге, югары ватылу көчәнеше һәм каты мохиткә чыдамлыгы аны югары вольтлы ачкычлар һәм инверторлар кебек көч электроникасы өчен идеаль итә. Нуль MPD классы минималь кимчелекләрне тәэмин итә, бу югары ышанычлы җайланмалар өчен бик мөһим. Җитештерү классындагы пластиналар көч җайланмаларын һәм радиоешлык кушымталарын зур күләмдә җитештерүдә кулланыла, анда җитештерүчәнлек һәм төгәллек бик мөһим. Макет класслы пластиналар, киресенчә, процессны калибрлау, җиһазларны сынау һәм прототиплаштыру өчен кулланыла, бу ярымүткәргеч җитештерү мохитендә сыйфатны даими контрольдә тоту мөмкинлеген бирә.

N-типтагы SiC композит субстратларының өстенлекләре түбәндәгеләрне үз эченә ала

  • Югары җылылык үткәрүчәнлеге4H/6H-P SiC пластинасы җылылыкны нәтиҗәле рәвештә тарата, бу аны югары температуралы һәм югары куәтле электрон кушымталар өчен яраклы итә.
  • Югары ватылу көчәнешеЮгары көчәнешләрне өзеклексез эшкәртү сәләте аны көч электроникасы һәм югары көчәнешле коммутация кушымталары өчен идеаль итә.
  • Нуль MPD (микроторба дефекты) дәрәҗәсеМинималь кимчелек тыгызлыгы югарырак ышанычлылыкны һәм эшчәнлекне тәэмин итә, бу таләпчән электрон җайланмалар өчен бик мөһим.
  • Күпләп җитештерү өчен җитештерү дәрәҗәсе: Югары сыйфатлы ярымүткәргеч җайланмаларны зур күләмдә җитештерү өчен яраклы, катгый сыйфат стандартлары белән.
  • Сынау һәм калибрлау өчен макет-дәрәҗәЮгары бәяле җитештерү дәрәҗәсендәге пластиналар кулланмыйча, процессны оптимальләштерү, җиһазларны сынау һәм прототиплаштыру мөмкинлеген бирә.

Гомумән алганда, нуль MPD класслы, җитештерү класслы һәм макет класслы 4H/6H-P 6 дюймлы SiC пластиналары югары җитештерүчән электрон җайланмалар эшләү өчен зур өстенлекләр бирә. Бу пластиналар, аеруча, югары температуралы эшләү, югары куәт тыгызлыгы һәм нәтиҗәле куәт үзгәртү таләп иткән кушымталарда файдалы. Нуль MPD класслы җайланмаларның ышанычлы һәм тотрыклы эшләве өчен минималь җитешсезлекләрне тәэмин итә, ә җитештерү класслы пластиналар катгый сыйфат контроле белән зур күләмле җитештерүне хуплый. Макет класслы пластиналар процессны оптимальләштерү һәм җиһазларны калибрлау өчен экономияле чишелеш тәкъдим итә, бу аларны югары төгәллекле ярымүткәргечләр җитештерү өчен алыштыргысыз итә.

җентекле схема

b1
b2

  • Алдагысы:
  • Киләсе:

  • Хәбәрегезне монда языгыз һәм безгә җибәрегез