12 дюймлы SiC субстрат Диаметры 300 мм Калынлыгы 750 мкм 4H-N Тибы көйләнергә мөмкин

Кыскача тасвирлама:

Ярымүткәргечләр сәнәгатенең нәтиҗәлерәк һәм компакт чишелешләргә күчүенең мөһим чорында, 12 дюймлы SiC субстраты (12 дюймлы кремний карбиды субстраты) барлыкка килүе ландшафтны төптән үзгәртте. Традицион 6 дюймлы һәм 8 дюймлы спецификацияләр белән чагыштырганда, 12 дюймлы субстратның зур зурлыктагы өстенлеге бер пластинада җитештерелә торган чиплар санын дүрт тапкырдан артыкка арттыра. Моннан тыш, 12 дюймлы SiC субстратының берәмлек бәясе гадәти 8 дюймлы субстратлар белән чагыштырганда 35-40% ка кими, бу исә соңгы продуктларны киң куллану өчен бик мөһим.
Пар ташуны үстерү өчен үзебезнең махсус технологиябезне кулланып, без 12 дюймлы кристаллардагы дислокация тыгызлыгын тармакта алдынгы дәрәҗәдә контрольдә тотарга ирештек, бу исә киләчәктәге җайланмалар җитештерү өчен гаҗәеп материал нигезе булдырды. Бу алгарыш, бигрәк тә, хәзерге глобаль чип җитмәү шартларында зур әһәмияткә ия.

Көндәлек кулланылыштагы төп көч җайланмалары - мәсәлән, электромобильләрнең тиз зарядка станцияләре һәм 5G база станцияләре - бу зур күләмле субстратны барган саен күбрәк куллана бара. Аеруча югары температуралы, югары вольтлы һәм башка авыр эш мохитендә, 12 дюймлы SiC субстраты кремний нигезендәге материалларга караганда күпкә югарырак тотрыклылык күрсәтә.


  • :
  • Үзенчәлекләр

    Техник параметрлар

    12 дюймлы кремний карбиды (SiC) субстраты спецификациясе
    Дәрәҗә ZeroMPD җитештерү
    Дәрәҗә (Z дәрәҗәсе)
    Стандарт җитештерү
    Дәрәҗә (P дәрәҗәсе)
    Макет дәрәҗәсе
    (D дәрәҗәсе)
    Диаметр 3 0 0 мм~1305 мм
    Калынлыгы 4H-N 750 мкм±15 мкм 750 мкм±25 мкм
      4H-SI 750 мкм±15 мкм 750 мкм±25 мкм
    Вафли юнәлеше Күчтән читтә: 4H-N өчен <1120 >±0.5° юнәлешендә 4.0°, Күчтә: 4H-SI өчен <0001>±0.5°
    Микроторба тыгызлыгы 4H-N ≤0.4 см-2 ≤4 см-2 ≤25 см-2
      4H-SI ≤5 см-2 ≤10 см-2 ≤25 см-2
    Каршылык 4H-N 0,015~0,024 Ω·см 0,015~0,028 Ω·см
      4H-SI ≥1E10 Ω·см ≥1E5 Ω·см
    Төп яссылык ориентациясе {10-10} ±5.0°
    Башлангыч яссы озынлык 4H-N Юк
      4H-SI Уклык
    Кыр чикләрен чыгару 3 мм
    LTV/TTV/Bow /Warp ≤5μm / ≤15μm / ≤35 μm / ≤55 μm ≤5μm / ≤15μm / ≤35 □ μm / ≤55 □ μm
    Тупаслык Полякча Ra≤1 нм
      CMP Ra≤0.2 нм Ra≤0,5 нм
    Югары интенсивлыклы яктылык белән кырый ярылулары
    Югары интенсивлыклы яктылык ярдәмендә алты почмаклы пластиналар
    Югары интенсивлыклы яктылык ярдәмендә политип зоналары
    Күзгә күренеп кулланыла торган углерод кушылмалары
    Югары интенсивлы яктылык белән кремний өслегендәге сызыклар
    Юк
    Тупланган мәйдан ≤0,05%
    Юк
    Тупланган мәйдан ≤0,05%
    Юк
    Кумулятив озынлык ≤ 20 мм, бер озынлык ≤ 2 мм
    Тупланган мәйдан ≤0.1%
    Тупланган мәйдан ≤3%
    Тупланган мәйдан ≤3%
    Кумулятив озынлык ≤1 × пластина диаметры
    Югары интенсивлыклы яктылык белән кырый чиплары Киңлеге һәм тирәнлеге ≥0,2 мм булырга тиеш түгел 7 рөхсәт ителә, һәрберсе ≤1 мм
    (TSD) Җепле винт чыгару ≤500 см-2 Юк
    (BPD) Нигез яссылыгы дислокациясе ≤1000 см-2 Юк
    Кремний өслегенең югары интенсивлы яктылык белән пычрануы Юк
    Упаковка Күп вафлилы кассета яки бер вафлилы контейнер
    Искәрмәләр:
    1 Кимчелекләр чикләре, кырыйларны чыгару өлкәсеннән кала, пластинаның бөтен өслегенә кагыла.
    2 Сыдырылган урыннарны бары тик Si йөзендә генә тикшерергә кирәк.
    3 Дислокация мәгълүматлары KOH белән бизәлгән пластиналардан гына алынган.

     

    Төп үзенчәлекләр

    1. Җитештерү куәте һәм бәя өстенлекләре: 12 дюймлы SiC субстратын (12 дюймлы кремний карбиды субстраты) күпләп җитештерү ярымүткәргечләр җитештерүдә яңа чорны билгели. Бер пластинадан алынган чиплар саны 8 дюймлы субстратларга караганда 2,25 тапкырга җитә, бу җитештерү нәтиҗәлелегендә турыдан-туры сикереш ясый. Кулланучыларның фикере күрсәткәнчә, 12 дюймлы субстратларны куллану аларның энергия модулен җитештерү чыгымнарын 28% ка киметә, бу көчле көндәшлек базарында хәлиткеч көндәшлек өстенлеге тудыра.
    2. Күренекле физик үзлекләр: 12 дюймлы SiC нигезе кремний карбиды материалының барлык өстенлекләрен мирас итеп ала - аның җылылык үткәрүчәнлеге кремнийныкыннан 3 тапкыр артыграк, ә җимерелү кыры көче кремнийныкыннан 10 тапкырга җитә. Бу үзенчәлекләр 12 дюймлы нигезләргә нигезләнгән җайланмаларга 200°C тан артык югары температуралы мохиттә тотрыклы эшләргә мөмкинлек бирә, бу аларны электр машиналары кебек катлаулы кушымталар өчен аеруча яраклы итә.
    3. Өслек эшкәртү технологиясе: Без 12 дюймлы SiC субстратлары өчен махсус рәвештә яңа химик механик полировкалау (CMP) процессын эшләдек, атом дәрәҗәсендәге өслек тигезлегенә ирештек (Ra <0,15 нм). Бу ачыш зур диаметрлы кремний карбиды пластинасы өслеген эшкәртүнең дөньякүләм проблемасын хәл итә, югары сыйфатлы эпитаксиаль үсеш өчен киртәләрне бетерә.
    4. Җылылык белән идарә итү нәтиҗәлелеге: Гамәли кулланылышта, 12 дюймлы SiC субстратлары гаҗәеп җылылык тарату мөмкинлекләрен күрсәтә. Сынау мәгълүматлары күрсәткәнчә, шул ук куәт тыгызлыгы астында, 12 дюймлы субстратларны кулланучы җайланмалар кремний нигезендәге җайланмаларга караганда 40-50°C түбәнрәк температурада эшли, бу җиһазларның хезмәт итү вакытын сизелерлек озайта.

    Төп кушымталар

    1. Яңа энергияле транспорт чаралары экосистемасы: 12 дюймлы SiC субстраты (12 дюймлы кремний карбиды субстраты) электр транспорт чараларының көч агрегаты архитектурасында революция ясый. Борт зарядка җайланмаларыннан (OBC) алып төп привод инверторларына һәм аккумулятор белән идарә итү системаларына кадәр, 12 дюймлы субстратларның нәтиҗәлелек яхшыруы транспорт чараларының йөреш диапазонын 5-8% ка арттыра. Алдынгы автомобиль җитештерүче компания отчетлары күрсәткәнчә, безнең 12 дюймлы субстратларны куллану аларның тиз зарядка системасында энергия югалтуларын 62% ка киметкән.
    2. Яңартыла торган энергия секторы: Фотоэлектрик электр станцияләрендә 12 дюймлы SiC субстратларына нигезләнгән инверторлар кечерәк форма факторларына ия генә түгел, ә 99% тан артык конверсия нәтиҗәлелегенә дә ирешәләр. Аеруча таратылган генерация сценарийларында бу югары нәтиҗәлелек операторлар өчен ел саен йөзләрчә мең юань күләмендә электр энергиясе югалтуларын экономияләргә мөмкинлек бирә.
    3. Сәнәгать автоматизациясе: 12 дюймлы субстратларны кулланучы ешлык үзгәрткечләре сәнәгать роботларында, CNC станокларында һәм башка җиһазларда бик яхшы эш күрсәтә. Аларның югары ешлыклы күчерү үзенчәлекләре моторның җавап бирү тизлеген 30% ка яхшырта, шул ук вакытта электромагнит комачаулауны гадәти чишелешләрнең өчтән бер өлешенә кадәр киметә.
    4. Кулланучылар электроникасы инновациясе: Яңа буын смартфоннары өчен тиз зарядка технологияләре 12 дюймлы SiC субстратларын куллана башлады. 65 Вт тан югарырак тиз зарядка җайланмалары тулысынча кремний карбиды эремәләренә күчәчәк дип фаразлана, ә 12 дюймлы субстратлар оптималь бәя-нәтиҗә сайлау буларак барлыкка киләчәк.

    12 дюймлы SiC субстраты өчен XKH шәхси хезмәтләре

    12 дюймлы SiC субстратлары (12 дюймлы кремний карбиды субстратлары) өчен махсус таләпләрне канәгатьләндерү өчен, XKH комплекслы хезмәт күрсәтү ярдәме тәкъдим итә:
    1. Калынлыкны көйләү:
    Без төрле куллану ихтыяҗларын канәгатьләндерү өчен төрле калынлыктагы 12 дюймлы субстратлар тәкъдим итәбез, шул исәптән 725 мкм.
    2. Допинг концентрациясе:
    Безнең җитештерү n-тип һәм p-типтагы субстратларны да кертеп, төрле үткәрүчәнлек төрләрен хуплый, 0,01-0,02Ω·см диапазонында төгәл каршылык контроле белән.
    3. Сынау хезмәтләре:
    Тулы пластина дәрәҗәсендәге сынау җиһазлары белән без тулы тикшерү отчетларын бирәбез.
    XKH һәр клиентның 12 дюймлы SiC субстратларына карата уникаль таләпләре булуын аңлый. Шуңа күрә без иң көндәшлеккә сәләтле чишелешләр тәкъдим итү өчен сыгылмалы бизнес хезмәттәшлек модельләрен тәкъдим итәбез, мәсәлән:
    · тикшеренү һәм эшләнмәләр үрнәкләре
    · Күләмле җитештерү сатып алулары
    Безнең шәхси хезмәтләребез 12 дюймлы SiC субстратлары өчен сезнең техник һәм җитештерү ихтыяҗларыгызны канәгатьләндерә алуыбызны тәэмин итә.

    12 дюймлы SiC субстраты 1
    12 дюймлы SiC субстраты 2
    12 дюймлы SiC субстраты 6

  • Алдагысы:
  • Киләсе:

  • Хәбәрегезне монда языгыз һәм безгә җибәрегез