SiO2 Нечкә кино җылылык оксиды Кремний вафин 4инч 6инч 8инч 12инч

Оксидлаштырылган кремний ваферларын җитештерүнең төп процессы гадәттә түбәндәге адымнарны үз эченә ала: монокристалл кремний үсеше, ваферларга кисү, бизәү, чистарту һәм оксидлаштыру.

Монокристалл кремний үсеше: Беренчедән, монокристалл кремний югары температурада Чохральски ысулы яки Флот-зона ысулы белән үстерелә.Бу ысул кремний кристаллларын югары чисталык һәм такталы бөтенлек белән әзерләргә мөмкинлек бирә.

Бәяләү: monскән монокристалл кремний гадәттә цилиндрик формада һәм вафер субстрат буларак куллану өчен нечкә вафаларга киселергә тиеш.Кисү гадәттә бриллиант кисүче белән башкарыла.

Оештыру: Киселгән вафин өслеге тигез булмаган булырга мөмкин һәм шома өслек алу өчен химик-механик бизәүне таләп итә.

Чистарту: Чистартылган вафин пычракларны һәм тузанны бетерү өчен чистартыла.

Оксидлаштыру: Ниһаять, кремний вафиннары югары температуралы мичкә кертелә, оксидлаштыру өчен, кремний диоксидының саклагыч катламын формалаштыру өчен, аның электр үзлекләрен һәм механик көчен яхшырту, шулай ук ​​интеграль схемаларда изоляцион катлам булып хезмәт итү.

Оксидлаштырылган кремний вафиннарның төп кулланылышы интеграль схемалар җитештерүне, кояш күзәнәкләрен җитештерүне һәм башка электрон җайланмалар җитештерүне үз эченә ала.Кремний оксиды вафиннары ярымүткәргеч материаллар өлкәсендә киң кулланыла, чөнки аларның искиткеч механик үзлекләре, үлчәмле һәм химик тотрыклылыгы, югары температурада һәм югары басымда эш итү сәләте, шулай ук ​​яхшы изоляцион һәм оптик үзлекләр бар.

Аның өстенлекләренә тулы кристалл структурасы, саф химик состав, төгәл үлчәмнәр, яхшы механик үзлекләр һ.б. керә. Бу үзенчәлекләр кремний оксиды ваферларын югары җитештерүчән интеграль схемалар һәм башка микроэлектрон җайланмалар җитештерү өчен аеруча яраклы итә.